検索条件に一致する装置・設備仕様69件
掲載メーカー22社
情報区分公表資料・照合中
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製造技術辞典へ 技術の概要・代表設備・工程上の確認事項と、メーカー公式HP掲載情報を技術辞典でまとめています。
設備仕様データベース
容量はリットル（L）、圧力はメガパスカル（MPa）で表示。実際の稼働予定や対象製品の品質要件は、候補企業と個別に確認します。
69件中 1～50件を表示
| 企業・対象拠点 | 装置・設備 | 公表容量 | 材質 | 温度 | 最高圧力 | 台数 | 根拠 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| AGC株式会社（低分子CDMO事業・千葉）日本／AGC千葉工場（低分子CDMO）工場ID登録あり | ジェットミル・ピンミル粉砕・粉体処理メーカー原文分類：粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 2 | 公式根拠 ジェットミル～8kg/hとピンミル15～20kg/hのメーカー公表処理量。kg/hをL換算しない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| アクティブファーマ株式会社日本／全社公開設備・工場別未特定工場単位の紐付け未確定 | 乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 メーカー公表。最大容積Lは未公表。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| アクティブファーマ株式会社日本／全社公開設備・工場別未特定工場単位の紐付け未確定 | 粉砕機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 メーカー公式設備リスト。粒径・等は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| アクティブファーマ株式会社日本／全社公開設備・工場別未特定工場単位の紐付け未確定 | 棚乾燥機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 メーカー公表。製造場所と処理能力は別途確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| アルプス薬品工業株式会社日本／上野工場／ハザードキロラボ工場ID登録あり | 用ジェットミル乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 高活性でジェットミルの公表あり。対象の粒度仕様・機器台数は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| アルプス薬品工業株式会社日本／上野工場／ハザードパイロット工場ID登録あり | パイロット用ピンミル乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 高活性パイロット設備でピンミルの使用をメーカー公表。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| アルプス薬品工業株式会社日本／上野工場／ステロイド専用プラント工場ID登録あり | ステロイド用ジェットミル・ピンミル乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 ステロイドプラントの設備。装置の合計台数は公表されていない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| シオノギファーマ株式会社日本／徳島工場／一般APIエリア工場ID登録あり | 2000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 装置数・同時運転の可否は未公表。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| ダイト株式会社日本／下奥井工場（旧大和薬品工業）／メーカー公式工場設備概要工場ID登録あり | 群（500～3,000L）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 500～3,000 L | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 複数乾燥機の公表容量範囲。反応器と混ぜない。メーカーが材質・基数・温度を当該区分で公表していないためNULL。確認：2026-10-14／メーカー公表 |
| ペプチスター株式会社日本／製造棟2／精製室工場ID登録あり | ・核酸用機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 製造棟2の施設紹介に機を掲載。500L級設備は全社概要値であり、写真の設備と同一かは未照合。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 住友化学株式会社日本／岡山工場／乾燥工程工場ID登録あり | （6,000L×2基）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 6,000 L | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 2 | 公式根拠 メーカー公式の設備画像/説明：『（6m³×2）』。容量6,000Lは各装置の公表容積、2基は台数。温度・材質・設計/使用容量の区分・適用製品は未公表。高圧水添装置とは別設備。確認：2026-10-14／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅰ工場ID登録あり | 真空振動乾燥機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 600 L | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 0.6㎥をリットルへ換算。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅱ工場ID登録あり | 真空振動乾燥機（）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 1,600 L | ハステロイ | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公表1.6㎥。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅱ工場ID登録あり | 真空振動乾燥機（）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 1,600 L | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公表1.6㎥。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅰ工場ID登録あり | （/）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 1,000～2,000 L | SUS/GL | 未記載 | 未記載 | 3 | 公式根拠 1～2㎥の3基の装置群。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅱ工場ID登録あり | （）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 1,000～2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 3 | 公式根拠 1～2㎥の3基。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅱ工場ID登録あり | ナウタ乾燥機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 2㎥をリットルに換算。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅲ／Gエリア工場ID登録あり | 乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000～3,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 6 | 公式根拠 2～3㎥、6基。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅰ工場ID登録あり | 機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 2 | 公式根拠 1基当たりのトラップ凝結量300kgは反応容量Lではない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅰ工場ID登録あり | 真空棚段乾燥機（29L×30枚）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 3 | 公式根拠 29L×30枚/基の製品棚寸法であり、単一反応容積870Lと解釈しない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／パイロットプラント（須賀川工場）／主要設備表工場ID登録あり | 粉砕機（ピンミル）・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：パイロット・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式「パイロットプラント」主要設備表の須賀川工場行より。能力kg/hや粉砕粒度は設備行から未確認。 工場・装置群の公表設備であり、品目別適合、現行稼働、供給余力は未独立確認。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／20工場（須賀川工場）／精製ゾーン工場ID登録あり | 精製ゾーン ・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：医薬品工場・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式医薬品工場ページ内「精製ゾーン／主要設備」表の同一行による容量・個数・材質。処理能力kg/hや粒度の個体別仕様は非掲載。 装置容量Lは個々の機器種別/であり製造可能バッチkgや空きキャパを意味しない。同工場では反応ゾーン温度範囲-15～140℃を公表するが各釜の個別温度ではないため温度欄は未入力。 対応はメーカー公表であり、品目別適合、・供給可否を独立証明しない。工場は福島県須賀川市、施設ID190。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／20工場（須賀川工場）／精製ゾーン工場ID登録あり | 精製ゾーン ピンミル・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：医薬品工場・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式医薬品工場ページ内「精製ゾーン／主要設備」表の同一行による容量・個数・材質。処理能力kg/hや粒度の個体別仕様は非掲載。 装置容量Lは個々の機器種別/であり製造可能バッチkgや空きキャパを意味しない。同工場では反応ゾーン温度範囲-15～140℃を公表するが各釜の個別温度ではないため温度欄は未入力。 対応はメーカー公表であり、品目別適合、・供給可否を独立証明しない。工場は福島県須賀川市、施設ID190。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／F25工場（須賀川工場）／精製ゾーン工場ID登録あり | 精製ゾーン ・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：医薬品工場・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式医薬品工場ページ内「精製ゾーン／主要設備」表の同一行による容量・個数・材質。 装置容量Lは個々の機器種別/であり製造可能バッチkgや空きキャパを意味しない。 対応はメーカー公表であり、品目別適合、・供給可否を独立証明しない。工場は福島県須賀川市、施設ID191。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／F25工場（須賀川工場）／精製ゾーン工場ID登録あり | 精製ゾーン ピンミル・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：医薬品工場・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式医薬品工場ページ内「精製ゾーン／主要設備」表の同一行による容量・個数・材質。 装置容量Lは個々の機器種別/であり製造可能バッチkgや空きキャパを意味しない。 対応はメーカー公表であり、品目別適合、・供給可否を独立証明しない。工場は福島県須賀川市、施設ID191。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 室町ケミカル株式会社日本／医薬品事業全体（公表ページでは装置ごとの設置工場未特定）工場単位の紐付け未確定 | 衝撃式粉砕機粉砕・粉体処理メーカー原文分類：製造・粉体設備 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 メーカー公表最大処理能力150kg/時。処理実績/原薬設備認証と混同しない。確認：2026-10-12／メーカー公表 |
| 有機合成薬品工業株式会社日本／メーカー公式GMP対応主要設備一覧／工場別の詳細割当は未公表工場単位の紐付け未確定 | 200AFG-pharma乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公称粒度分布2～20μm、処理20～30kg/h、窒素雰囲気。kg/hは処理速度、μmは粒度であり装置容量Lとは異なる。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 有機合成薬品工業株式会社日本／メーカー公式GMP対応主要設備一覧／工場別の詳細割当は未公表工場単位の紐付け未確定 | 200AS乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公称粒度分布2～20μm、処理20～30kg/h、窒素雰囲気。メーカー公開の粒度は特定品目の保証粒度ではない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社 大阪合成有機化学研究所日本／医薬中間体事業ページ掲載の写真／拠点未特定工場単位の紐付け未確定 | 乾燥設備 500L（企業紹介写真）乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 500 L | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 会社の事業ページに500L乾燥設備の写真キャプション。工場の帰属や台数・製造可能品目は不明。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社DNPファインケミカル宇都宮日本／GMP対応製造群（メーカー分類）工場ID登録あり | ジェットミル・ピンミル（計3基）粉砕・粉体処理メーカー原文分類：粉砕機 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 3 | 公式根拠 粉砕機2方式合計3基、品目別適格性・能力は未確認。確認：2026-10-12／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第4工場（パイロットプラント）工場ID登録あり | 300L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 300 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第1工場（マルチプラント）工場ID登録あり | 1000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 1,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第5工場（精製プラント）工場ID登録あり | 2000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第7工場（マルチプラント）工場ID登録あり | 2000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第6工場（マルチプラント）工場ID登録あり | 2000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第3工場（精製プラント）工場ID登録あり | 2000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第1工場（マルチプラント）工場ID登録あり | 4000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 4,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第1工場（マルチプラント）工場ID登録あり | フラッシュミル乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 2 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社エースジャパン日本／第3工場（精製プラント）工場ID登録あり | ジェットミル乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 メーカー公式の該当工場の設備表。台数は工場内同一仕様装置の基数。現在の適合・供給空き枠は独立未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社ケミクレア日本／小名浜第1工場／乾燥設備工場ID登録あり | 2000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 2,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 工場別メーカー公式設備表。能力・材質・台数・温度は当該掲載設備に限り、ほかの工場や原薬の適格性に拡張しない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社ケミクレア日本／小名浜第1工場／乾燥設備工場ID登録あり | 4000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 4,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 工場別メーカー公式設備表。能力・材質・台数・温度は当該掲載設備に限り、ほかの工場や原薬の適格性に拡張しない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社ケミクレア日本／小名浜第4工場／原薬乾燥設備工場ID登録あり | 4000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 4,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 クラス10万クリーンルーム内に設置と企業公表。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社ケミクレア日本／小名浜第5工場／原薬用クリーンルーム工場ID登録あり | セラミックコート棚段式乾燥機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | セラミックコート | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 原文表に棚段式・温水循環・クラス10万クリーンルームと記載。棚段容積や同時処理量未公表。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社常磐植物化学研究所日本／佐倉本社工場／会社公表の混合設備群工場ID登録あり | V型・ 150～1500L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 150～1,500 L | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 V型混合機・のサイズ帯。個別設備の正確な仕様と台数は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社常磐植物化学研究所日本／佐倉本社工場／抽出・精製のメーカー公表設備工場ID登録あり | 植物抽出物向け機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 公表資料に装置種類を明記。台数、処理容量、原薬ごとの要件は不明。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 株式会社常磐植物化学研究所日本／佐倉本社工場／抽出・精製のメーカー公表設備工場ID登録あり | 植物エキス用ヤー乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 公式根拠 公表資料に装置種類を明記。台数、処理容量、原薬ごとの要件は不明。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 桂化学株式会社日本／相模工場／メーカー公開設備表工場ID登録あり | ナウタードライヤー 500L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 500 L | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 原料・原薬等の乾燥工程用としてメーカー公開装置表に記載。個別の製造品目・運転余力は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 桂化学株式会社日本／相模工場／メーカー公開設備表工場ID登録あり | 800L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 800 L | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 原料・原薬等の乾燥工程用としてメーカー公開装置表に記載。個別の製造品目・運転余力は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 桂化学株式会社日本／相模工場／メーカー公開設備表工場ID登録あり | 1000L乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 1,000 L | GL | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 原料・原薬等の乾燥工程用としてメーカー公開装置表に記載。個別の製造品目・運転余力は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 桂化学株式会社日本／相模工場／メーカー公開設備表工場ID登録あり | 通風乾燥機乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 原料・原薬等の乾燥工程用としてメーカー公開装置表に記載。個別の製造品目・運転余力は未確認。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
設備情報の見方
装置の容量・温度・圧力は公開資料の記載内容を掲載し、原典照合中の記録はその旨を表示します。工場が明記された情報は拠点ごとに、それ以外は企業全体の情報として整理しています。案件への適合は、対象API・反応条件・製造拠点・GMPや品質要件・稼働予定を確認しながら検討します。