01 / TECHNICAL OVERVIEW
技術の概要
晶析設備の有無と特定APIの結晶形・粒径を再現できることは別。核化・成長・冷却などの制御を確認する。
関連する呼び方
再結晶多形制御Crystallization
02 / TYPICAL EQUIPMENT
代表的な設備・工程
一般的な設備例です。下に掲載する個別メーカーが全設備を保有することを意味しません。
01
晶析槽・温調・攪拌設備
02
固液分離・ろ過・乾燥設備
03
必要に応じたプロセス解析（PAT）
03 / SCREENING POINTS
工程・設備の確認ポイント
1
晶析槽の容量・温度プロファイル
2
溶媒・不純物・スケール依存性
3
結晶多形、粒度PSDの評価方法
4
ろ過・洗浄・乾燥工程との接続
04 / ANALYTICAL SUPPORT
関連する分析・評価技術
XRPDDSC / TGA粒度分布測定HPLC
実際に必要な分析項目は、対象物質・規格・製造工程に応じて決まります。
05 / MANUFACTURER-PUBLISHED EVIDENCE
公式HPに関連技術の記載があるメーカー
メーカーが公開する関連技術・サービスの記述を、企業ごとの出典とともに掲載しています。
メーカー公式資料の掲載情報を読み込み中です…
公表資料の掲載有無は企業の能力順位を示しません。未掲載・未調査のメーカーを「非対応」とは判定しません。資料記載の設備や技術が現在利用できるかどうかは、個別の確認が必要です。