検索条件に一致する装置・設備仕様4件
掲載メーカー3社
情報区分公表資料・照合中
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製造技術辞典へ 技術の概要・代表設備・工程上の確認事項と、メーカー公式HP掲載情報を技術辞典でまとめています。
設備仕様データベース
容量はリットル（L）、圧力はメガパスカル（MPa）で表示。実際の稼働予定や対象製品の品質要件は、候補企業と個別に確認します。
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| 企業・対象拠点 | 装置・設備 | 公表容量 | 材質 | 温度 | 最高圧力 | 台数 | 根拠 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 十全化学株式会社日本／JPP-Ⅲ／Cエリア（HPAPI・封じ込め）工場ID登録あり | 高活性・メーカー原文分類：HPAPI・封じ込め | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 確認：2026-10-11／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／20工場（須賀川工場）／精製ゾーン工場ID登録あり | 精製ゾーン ・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：医薬品工場・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式医薬品工場ページ内「精製ゾーン／主要設備」表の同一行による容量・個数・材質。処理能力kg/hや粒度の個体別仕様は非掲載。 装置容量Lは個々の機器種別/であり製造可能バッチkgや空きキャパを意味しない。同工場では反応ゾーン温度範囲-15～140℃を公表するが各釜の個別温度ではないため温度欄は未入力。 対応はメーカー公表であり、品目別適合、・供給可否を独立証明しない。工場は福島県須賀川市、施設ID190。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 大内新興化学工業株式会社日本／F25工場（須賀川工場）／精製ゾーン工場ID登録あり | 精製ゾーン ・粉砕・粉体処理メーカー原文分類：医薬品工場・粉砕 | 未記載 | SUS | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公式医薬品工場ページ内「精製ゾーン／主要設備」表の同一行による容量・個数・材質。 装置容量Lは個々の機器種別/であり製造可能バッチkgや空きキャパを意味しない。 対応はメーカー公表であり、品目別適合、・供給可否を独立証明しない。工場は福島県須賀川市、施設ID191。確認：2026-10-13／メーカー公表 |
| 有機合成薬品工業株式会社日本／メーカー公式GMP対応主要設備一覧／工場別の詳細割当は未公表工場単位の紐付け未確定 | 200AS乾燥設備メーカー原文分類：乾燥・粉砕 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 未記載 | 1 | 公式根拠 公称粒度分布2～20μm、処理20～30kg/h、窒素雰囲気。メーカー公開の粒度は特定品目の保証粒度ではない。確認：2026-10-11／メーカー公表 |
設備情報の見方
装置の容量・温度・圧力は公開資料の記載内容を掲載し、原典照合中の記録はその旨を表示します。工場が明記された情報は拠点ごとに、それ以外は企業全体の情報として整理しています。案件への適合は、対象API・反応条件・製造拠点・GMPや品質要件・稼働予定を確認しながら検討します。