01 / TECHNICAL OVERVIEW
技術の概要
乾燥装置の種類、溶媒取扱、安全性および回収効率を確認する。粒子設計・製剤開発用途は原薬合成とは区別する。
関連する呼び方
スプレードライASDSpray Drying
02 / TYPICAL EQUIPMENT
代表的な設備・工程
一般的な設備例です。下に掲載する個別メーカーが全設備を保有することを意味しません。
01
噴霧乾燥機
02
溶媒回収・防爆・排気処理設備
03
粉体回収・封じ込め設備
03 / SCREENING POINTS
工程・設備の確認ポイント
1
水系／有機溶媒系の適用範囲
2
乾燥処理量とスケール
3
粒径・残留溶媒・形態制御
4
原薬／製剤のどの製造工程か
04 / ANALYTICAL SUPPORT
関連する分析・評価技術
XRPD / DSC粒度分布残留溶媒GC
実際に必要な分析項目は、対象物質・規格・製造工程に応じて決まります。
05 / MANUFACTURER-PUBLISHED EVIDENCE
公式HPに関連技術の記載があるメーカー
メーカーが公開する関連技術・サービスの記述を、企業ごとの出典とともに掲載しています。
メーカー公式資料の掲載情報を読み込み中です…
公表資料の掲載有無は企業の能力順位を示しません。未掲載・未調査のメーカーを「非対応」とは判定しません。資料記載の設備や技術が現在利用できるかどうかは、個別の確認が必要です。